دوشنبه 28 مهر 1404 – 11:25
تکناک
ویدیوی منتشرشده از فاز نخست کارخانه Fab 21 در نزدیکی شهر فینیکس، خطوط تولید تراشههایی را نشان میدهد که با فناوریهای پیشرفته N4 و N5 (در محدوده ۴ و ۵ نانومتر) ساخته میشوند. نور زرد محیط، نشانهای از اتاق پاک پیشرفتهای است که برای جلوگیری از تأثیر نورهای کوتاهطولموج بر حساسیت فتورزیستها طراحی شده است.
در ادامه، تمرکز ویدیو بر ابزارهای لیتوگرافی فوقفرابنفش شرکت ASML قرار دارد؛ دستگاههایی با نام Twinscan NXE که به صورت نمادین در سبکی سینمایی شبیه فیلم “Oppenheimer” فرایند چاپ الگوهای میکروسکوپی بر سطح ویفرها را به تصویر میکشند. این فناوری از پرتوهایی با طول موج ۱۳.۵ نانومتر استفاده میکند، که از پلاسماهای حاصل از قطرات قلع ایجاد میشوند. درخششهای بنفشرنگ داخل محفظه همان پلاسماهای نوری هستند که با برخورد به سطح ویفر، مدارهای با دقتی در حد ۱۳ نانومتر در مقیاس نیمگام ایجاد میکنند.
