وحید علیمحمدی
چین در سالهای اخیر با سرمایهگذاری گسترده برای بومیسازی صنعت نیمهرسانا، به دستاوردهای قابل توجهی رسیده است. اما سؤال اصلی اینجاست که این پیشرفتها تا کجا قابل اتکا هستند و گلوگاه اصلی چین در رقابت با غولهای تجهیزاتسازی، بهویژه ASML، کجاست؟
با این حال، زمانی که بررسیهای کارشناسی از لایه طراحی، معماری و بستهبندی به «تجهیزات کلیدی ساخت» و بهطور خاص سامانههای لیتوگرافی فرابنفش بسیار شدید (EUV) منتقل میشود، واقعیت فنی شکل کاملاً متفاوتی به خود میگیرد.