یک تیم تحقیقاتی موفق به ارائه فرآیند جدیدی برای لایهنشانی مواد از جنس سلنید قلع شده است. این فیلم لایه نازک با کمک روش لایهنشانی بخار شیمیایی آلی فلزی (MOCVD) تولید میشود و میتوان از آن برای ایجاد فیلمها روی سطوح بزرگ ویفر در دمای ۲۰۰ درجه سانتیگراد استفاده کرد. این روش دقت و مقیاسپذیری بالایی دارد. نتایج این پروژه در نشریه Advanced Materials به چاپ رسیده است.
به گزارش «نبض فناوری»، یک تیم تحقیقاتی موفق به ارائه فرآیند جدیدی برای لایهنشانی مواد از جنس سلنید قلع شده است. این فیلم لایه نازک با کمک روش لایهنشانی بخار شیمیایی آلی فلزی (MOCVD) تولید میشود و میتوان از آن برای ایجاد فیلمها روی سطوح بزرگ ویفر در دمای ۲۰۰ درجه سانتیگراد استفاده کرد. این روش دقت و مقیاسپذیری بالایی دارد. نتایج این پروژه در نشریه Advanced Materials به چاپ رسیده است.
MOCVD یک روش پیشرفته بوده که از پیشسازهای گازی برای انجام واکنشهای شیمیایی با دقت بالا استفاده میکند و این امکان را فراهم میسازد که فیلمهای نازک را روی مواد در مقیاس ویفر ایجاد کرد.
با کمک این روش نوآورانه، این تیم توانست مواد سلنید قلع (SnSe۲ ، SnSe) را با ضخامت یکنواخت در حد چند نانومتر روی واحدهای ویفر سنتز کند.