به گزارش «نبض فناوری»، گرافن نانو سلولی، یک شکل خاصی از گرافن است که با انباشت چندین لایه از گرافن و کنترل ساختار داخلی آن به یک مورفولوژی سلولی نانومقیاس میرسد که دارای مساحت سطحی بالایی است. اگرچه این ماده پتانسیل بهبود عملکرد دستگاههای الکترونیکی، دستگاههای ذخیرهسازی انرژی و حسگرها را دارد، در طول فرآیند تولید نقصهایی روی ساختار آن ایجاد میشود که موجب محدود شده کاربرد این نوع گرافن میشود. ترکها اغلب هنگام تشکیل گرافن نانو سلولی ظاهر میشوند از این رو دانشمندان به دنبال فناوری های جدید پردازش هستند که میتواند گرافن نانو سلولی همگن، بدون ترک و یکپارچه را در مقیاسهای مناسب ایجاد کند.
به تازگی مقالهای در نشریه Advanced Materials منتشر شده است که در آن یک روش جدید امیدوارکننده برای تولید گرافن نانو سلولی بدون ترک ارائه شده است. این کار توسط محققان انستیتوی تحقیقات مواد، دانشگاه توهوکو انجام شده است. این روش از فرآیندی شناخته شده به عنوان آلیاژزدایی استفاده میکند. در این روش، از قابلیت آمیختگی اجزاء آلیاژ در یک حمام حاوی مواد گداخته استفاده میکند. در این روش به صورت انتخابی اجزاء مورد نظر در آلیاژ از بین رفته و برخی از اجزاء دیگر باقی میماند.