اینتل توسعه فناوری‌های ساخت تراشه 10A و 7A را آغاز کرد

پنجشنبه 31 اردیبهشت 1405 – 10:15

هر دو فرآیند 10A و 7A احتمالا قادر به استفاده از ابزارهای لیتوگرافی EUV شرکت ASML با اپتیک‌های دارای دیافراگم عددی بالا یا همان High-NA خواهند بود که نخستین بار برای گره 14A به کار گرفته می‌شود.

تان بر یک رویه تجاری قدیمی تاکید کرد که نقشه‌های راه جاه‌طلبانه که به درستی اجرا شوند، به اندازه محصولات رقابتی یا فناوری‌های ساخت اهمیت دارند، زیرا بسیاری از شرکت‌ها نه فقط محصولات، بلکه نقشه‌های راه را خریداری می‌کنند، چرا که ترجیح می‌دهند سال‌ها با تامین‌کنندگان خود همکاری کنند. بنابراین اینتل باید دید بلندمدتی از نقشه راه به شرکای خود ارائه دهد و به همین دلیل باید روی فناوری‌هایی کار کند که سال‌ها تا تجاری‌سازی فاصله دارند.

منبع  : تک ناک

برای مشاهده کامل مطب کلیک کنید

 

اشتراک‌گذاری

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *