به گزارش ایده روز آنلاین به نقل از انگجت، منابع آگاه اعلام کردند که گروهی از محققان در شنژن، اوایل امسال نمونه اولیه یک دستگاه لیتوگرافی فرابنفش شدید (Extreme Ultraviolet Lithography یا EUV) را تکمیل کردهاند که هماکنون در حال آزمایش است. طبق گزارشها، این دستگاه EUV توسط مهندسان سابق شرکت هلندی تأمینکننده نیمهرسانا، ASML، ساخته شده است.
چین قصد دارد از سال ۲۰۲۸ میلادی تراشههای مبتنی بر EUV را تولید کند، هرچند کارشناسان پیشبینی میکنند این هدف احتمالاً از سال ۲۰۳۰ محقق خواهد شد.