ASML فناوری لیتوگرافی تراشه را متحول می‌کند

سه‌شنبه 5 اسفند 1404 – 18:45منبع نوری EUV نسل آینده ASML

مایکل پِرویس، سرپرست فناوری منبع نوری EUV در ASML، در گفت‌وگو با رویترز اظهار کرد: «دستیابی به توان یک کیلووات دستاوردی چشمگیر است. ما چشم‌اندازی روشن برای رسیدن به توان ۱,۵۰۰ وات و حتی ۲,۰۰۰ وات داریم.»

افزایش توان تولید، مشکلات فنی تازه‌ای را نیز پیش روی ASML قرار داده است؛ ازجمله کنترل ذرات قلع و طراحی سامانه‌های جدید جمع‌آوری ضایعات و توسعه اپتیک‌های با توان انتقال چشمگیر برای هدایت دقیق انرژی به سطح ویفر. افزون‌براین، بهره‌گیری از منبع نوری به این قدرت مستلزم استفاده از مواد و پوشش‌های مقاوم تازه‌ای است که کل زنجیره تولید نیمه‌رسانا را درگیر فرایند تطبیق و نوآوری خواهد کرد.

منبع  : تک ناک

برای مشاهده کامل مطب کلیک کنید

 

اشتراک‌گذاری

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *