ورود اینتل به فناوری لیزرهای الکترون آزاد

تک‌ناک

دوشنبه 25 فروردین 1404 – 13:10تحولی در لیتوگرافی EUV، ورود مدیرعامل اینتل به فناوری لیزرهای الکترون آزادتک‌ناک

فناوری EUV یک روش پیشرفته برای تولید مدارهای بسیار ریز در تراشه‌ها است، که از نوری با طول موج ۱۳.۵ نانومتر بهره می‌برد. این روش به ساخت الگوهای مداری با دقتی در حد ۸ نانومتر (برای ابزارهای High-NA) و حدود ۱۳ نانومتر (برای ابزارهای Low-NA) کمک می‌کند. در حال حاضر، تنها شرکت ASML هلند قادر به تولید تجهیزات EUV است و از منابع نوری پیچیده‌ای به نام پلاسما لیزری (LPP) استفاده می‌کند.

جلسینگر در پستی در لینکدین نوشت:

منبع  : تک ناک

برای مشاهده کامل مطب کلیک کنید

 

برچسب‌ها
اشتراک‌گذاری

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *